SiO2ターゲット

SiO2ターゲット

二酸化ケイ素 ターゲットの特性(スパッタリングターゲット)
1、SiO2ターゲットは、粒子状、基板(ウェハ)、ディスク、パネル、リング状、コーティング基板及びブロックなど各種形状があります。
2、弊社が生産したSIO2 TARGETは高純度(SIO2の含有量99.95%-99.9999%)、低気泡密度、低雑質含有量に優れたものであります。
3、大きいサイズ及び厳密な公差で設計することができます。
4、この溶融石英は薄膜、半導体、光学用、環境・新エネルギーの分野に幅広く使用されています。 

コーティング材料(PVDアプリケーションの詳細な蒸着材料をご参照してください)
コーティング材は、薄膜の形成に重要な部材として表面の保護や装飾に役割を果たしています。理想的な高品質・高精度の薄膜を形成する為、コーティング材料、表面処理、成膜技術、応用技術など全て高度な技術を用いております。

SiO2ターゲットの仕様
蒸着: 電子ビーム蒸着
蒸着温度: 1700 ℃
蒸着圧力: 5×10-3Pa
応用: 保護膜、低反射膜、光学膜、コンデンサー用薄膜等各種対応。

ZCQは、いろんな種類のSiO2ターゲット製品を製造しています。例えば:
SiO2ディスク、SiO2プレート、SiO2フランジ、SiO2 コーティング材、SiO2基板、SiO2パネル、コーティングされたSiO2基板
石英ディスク、石英フラット、石英パネル、石英窓、石英リング、ラウンドクォーツ、石英カバースリップ、石英精密加工、クォーツ長方形、石英顕微鏡スライド、石英チップ、石英ベース、ウェハーベース、石英フランジ、石英ミラー、石英ビスケット、我々ブランク、光学用石英、石英バッフル、石英テーブル、石英レンズ、望遠鏡用クォーツミラー、我々、石英板、石英片。

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